發布時間：2020-09-03 瀏覽次數：1425
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設備簡介：
旋轉擺振PECVD系統適用于粉體材料的表面薄膜沉積。系統由高功率射頻電源（500W，13.56MHz）、氣體質量流量控制系統、真空系統、旋轉擺振系統組成，采用NBD-101EP集中總線控制技術的諾巴迪操作軟件。利用等離子體特性來控制或影響氣相反應和材料表面的化學反應過程，并在適當的溫度下沉積薄膜。PECVD淀積的薄膜具有優良的電學性能、良好的襯底附著性以及極佳的臺階覆蓋性，正由于這些優點使其在超大規模集成電路、光電器件、MEMS等領域具有廣泛的應用。
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配置詳情
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主要特點： 1、射頻電源最大輸出功率：500W（連續可調），最大反射功率 70W； 2、出色的電磁波屏蔽方案，高效、安全！ 3、異形高純石英爐管，大容量反應空間； 4、獨有的旋轉（60檔精調設計）擺振結構，保證物料與等離子體的充分接觸； 5、三路高精度質量流量計（可依要求定制 ），集成混氣系統； 6、獨有進出料設計，保證設備在結構復雜狀態下的便捷進出料； 7、射頻系統、真空系統、旋轉擺振系統全面集成于一體，7英寸全觸屏操作，操作便捷、直觀； 8、可保存六組工藝參數，隨時調??； 9、實驗數據可自動截圖，并支持USB接口導出。 |
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電氣規格 |
AC220V 1.5千瓦 |
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設備尺寸 |
W1300mm×H1250mm×D760mm； |
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| 反應腔室 |
Φ120*L300mm（可定制，管內焊接三組攪拌擋板），非射頻區管徑：φ60mm； |
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翻轉速度 |
0.1～6轉/min（無極調速）； |
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翻轉傾角 |
-3°～+3° 最大傾倒角度30°
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反應腔壓力 |
5~80pa |
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法蘭結構 |
航空鋁快開模式； |
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操作系統 |
NBD-101EP集中總線控制集成系統，7"真彩觸摸屏操控，智能模糊PID 控制；智能式人機對話模式；
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電動推桿功率
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50W |
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RF 電源 |
輸出功率10～500W 任意連續可調，射頻頻率: 13.56MHz ±0.005% ，全自動匹配； |
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真空測試 |
數字真空計獲取裝置； |
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真空獲取 |
NBD-4C機械真空泵(220V/50Hz)，功率：0.4KW，抽速：4m3/h； |
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供氣系統 |
質量流量控制器（量程及標定可定制）精度：±1%F.S；響應時間：1-4秒； |
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設備細節 |
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部分界面 |
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凈重 |
約320KG |
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設備使用注意事項 |
1. 射頻匹配器一般處于自動匹配狀態，一般功率需達到50W以上才能匹配； 2. 若采用手動匹配，將功率設到60W左右，手動調諧匹配合適時，再增加功率 3. 工作時，需改變腔體的氣流量，先要要把功率設置為零，不能直接按“OFF”按鍵關閉射頻輸出。
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服務支持 |
一年有限保修，提供終身支持； |
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